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> 技术详情
鳍部和鳍式场效应管的形成方法
编号:S000020198
刷新日期:
有效日期至:
2020-11-09
浏览:
2208
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
科技服务
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
一种鳍部和鳍式场效应管的形成方法,其中所述鳍部的形成方法,包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底上形成有硬掩膜层,硬掩膜层具有若干相邻的开口;沿开口刻蚀半导体衬底,形成若干第一凹槽,第一凹槽的位置与开口的位置相对应,相邻的第一凹槽之间形成第一子鳍部;在第一凹槽和对应的开口内填充满隔离材料,形成隔离结构;去除硬掩膜层,形成若干第二凹槽;在所述第二凹槽内填充半导体材料,形成第二子鳍部;回刻蚀隔离结构,暴露第二子鳍部的侧壁;对第二子鳍部的侧壁进行平坦化处理。平坦化处理后,第二子鳍部的边缘和侧壁表面的形貌的具有较好均匀性,形成横跨第二子鳍部的栅极结构后,提高了鳍式场效应管的阈值电压的稳定性。
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机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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