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鳍部和鳍式场效应管的形成方法
编号:S000020198 刷新日期: 有效日期至:2020-11-09 浏览:1999 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
一种鳍部和鳍式场效应管的形成方法,其中所述鳍部的形成方法,包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底上形成有硬掩膜层,硬掩膜层具有若干相邻的开口;沿开口刻蚀半导体衬底,形成若干第一凹槽,第一凹槽的位置与开口的位置相对应,相邻的第一凹槽之间形成第一子鳍部;在第一凹槽和对应的开口内填充满隔离材料,形成隔离结构;去除硬掩膜层,形成若干第二凹槽;在所述第二凹槽内填充半导体材料,形成第二子鳍部;回刻蚀隔离结构,暴露第二子鳍部的侧壁;对第二子鳍部的侧壁进行平坦化处理。平坦化处理后,第二子鳍部的边缘和侧壁表面的形貌的具有较好均匀性,形成横跨第二子鳍部的栅极结构后,提高了鳍式场效应管的阈值电压的稳定性。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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