本发明公开了一种用于半导体集成电路中金属钨的抛光液，其特征在于，由下列重量份的原料制成：三氧化二锑3-4.5、辛烷基苯酚聚氧乙烯醚3.5-4.5、油酸6-8、油酸钠3-5、甜菜碱2.5-3.5、丁二酸二甲酯5.5-7.5、二氧化硅磨料11-14、松香胺2-4、四硼酸钠3-5、助剂5-7、去离子水300；本发明配方合理，通过添加辛烷基苯酚聚氧乙烯醚等表面活性剂，形成长期易清洗的物理吸附表面，以改善表面状态，以降低晶圆的表面粗糙度，添加助剂，具有良好的润滑、成膜性；本发明抛光液不腐蚀污染设备，容易清洗，金属层钨抛光速率快，可控性好，抛光后平整性好，工艺简单，成本低。