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> 技术详情
双应力薄膜的制造方法以及半导体器件
编号:S000019202
刷新日期:
有效日期至:
2020-12-24
浏览:
2388
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
合作研发
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明公开了一种双应力薄膜的制造方法以及半导体器件,采用含氮气体沉积碳化硅薄膜,并采用碳氢化合物对所述碳化硅薄膜进行等离子体处理,再重复上述沉积碳化硅薄膜和等离子体处理步骤,直至形成目标厚度的碳化硅薄膜,减少了碳化硅薄膜中的氮的含量,避免后续光刻工艺中光阻失效而导致曝光效率的下降,从而影响最终应力目标值和均匀性的风险;同时,利用UV光照射碳化硅薄膜,经过UV光照射的碳化硅薄膜从压应力薄膜转变成拉应力薄膜,解决了氮化硅薄膜双应力薄膜不能满足一些先进器件RC delay的要求的问题,并且避免传统双应力薄膜工艺存在的交叠区域问题,从而防止因为交叠区域而造成良率的损失,工艺简单易实施。
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机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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