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能降低超辐射发光二极管光谱波纹的芯片结构
编号:S000022126 刷新日期: 有效日期至:2021-01-06 浏览:2299 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
一种能降低超辐射发光二极管光谱波纹的芯片结构,包括超辐射发光二极管芯片,所述超辐射发光二极管芯片由顺次层叠的N面电极层、衬底层、缓冲层、下限制层、下波导层、有源层、上波导层、上限制层、顶层、电隔离层和P面电极层组成,其中,N面电极层所在端面为超辐射发光二极管芯片的下端面,P面电极层所在端面为超辐射发光二极管芯片的上端面;超辐射发光二极管芯片上端面设置有无源吸收区和有源区;其改进在于:所述无源吸收区范围内的P面电极层与N面电极层通过外接引线短接。本发明的有益技术效果是:可有效收集和消除无源吸收区内的电子空穴对,避免无源吸收区抑制光反馈能力随着输出功率增大而下降,提高超辐射发光二极管的性能。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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