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一种基于金属钌修饰的多孔硅表面金属电极制备方法
编号:S000021810 刷新日期: 有效日期至:2020-12-12 浏览:2007 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 四川 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明公开了一种基于金属钌修饰的多孔硅表面金属电极制备方法,属于半导体光电子材料与器件技术领域,其包括以下步骤:①对多孔硅进行金属修饰前处理;②使用氯化钌的酸溶液修饰多孔硅;③对金属钌修饰后的多孔硅进行干燥处理;④在金属钌修饰后的多孔硅表面沉积金属电极;⑤快速退火;光刻形成指定电极形状。本发明利用贵金属修饰的原理,经过氧化处理,在多孔硅表面形成一层金属钌颗粒和氧化硅的过渡层,再蒸镀金属电极,可提高多孔硅与金属电极间的电接触质量,降低多孔硅与金属电极的接触电阻。本发明可用于基于多孔硅的光电探测器和太阳能电池,能有效提高器件的响应速度和光电转换效率,且制备工艺简单、成本较低。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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