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具有增加的效率的VCSEL阵列
编号:S000020254 刷新日期: 有效日期至:2020-09-27 浏览:2189 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明涉及一种VCSEL阵列,其包括在公共衬底(1)上并排布置的若干VCSEL。每个VCSEL至少由顶部镜(5,14)、有源区(4)、电流注入层(3)和未掺杂的底部半导体镜(2)形成。所述电流注入层(3)设置在所述有源区(4)与所述底部半导体镜(2)之间。所述衬底(1)的至少上层是导电的。沟槽(8)和/或孔在所述VCSEL的所述底部半导体镜(2)之间形成到所述衬底(1)的所述上层。金属化部(9)通过所述沟槽(8)和/或孔将所述衬底(1)的所述上层与所述电流注入层(3)电连接。所提出的VCSEL阵列允许均匀的电流注入并且具有高的效率和功率密度。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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