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> 技术详情
一种混合三维晶体管及其形成方法
编号:S000019495
刷新日期:
有效日期至:
2020-09-27
浏览:
2499
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
科技服务
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明提出一种混合三维晶体管及其形成方法,该晶体管包括:衬底;绝缘层;形成在绝缘层之上的平面半导体结构;形成在平面半导体结构之上的半导体FIN,其中,半导体FIN的高度大于平面半导体结构的高度,半导体FIN的宽度小于平面半导体结构的宽度,半导体FIN的长度小于平面半导体结构的长度;两个斜坡台面,两个斜坡台面分别位于半导体FIN的两侧,斜坡台面的底部与平面半导体结构相连;栅介质,其包覆平面半导体结构的上表面和侧面以及半导体FIN的各个侧面;栅电极,其位于栅介质上方并且包覆平面半导体结构和半导体FIN;以及源漏区接触,其位于两个斜坡台面的上方。本发明的晶体管解决了FINFET器件驱动电流不能连续变化的难题,并且制备方法简单可行。
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No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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