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具有外围沟槽电容器的互补金属氧化物半导体图像传感器
编号:S000019341 刷新日期: 有效日期至:2020-11-04 浏览:2311 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本申请案涉及具有外围沟槽电容器的互补金属氧化物半导体CMOS图像传感器。一种实例性互补金属氧化物半导体CMOS图像传感器包含外延层、像素阵列及沟槽电容器。所述像素阵列形成于所述外延层的前侧上所述图像传感器的像素阵列区域中。所述像素阵列包含安置于邻近像素之间以用于隔离所述像素阵列区域中的所述像素的一个或一个以上浅沟槽隔离结构。所述沟槽电容器形成于所述外延层的所述前侧上所述图像传感器的外围电路区域中。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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