本发明公开了一种以水合高岭石制备甘氨酸-高岭石插层复合物的方法，该方法为：每1g水合高岭石与200ml2~3mol/L的甘氨酸溶液混合，调节pH值为6~7，在65~80℃下搅拌48~24h进行反应。再将反应产物经混合液经离心，水洗后，得到甘氨酸-高岭石插层复合物。这种插层复合物的层间距为d₀₀₁=1.03nm，插层率为74~84%。本发明制备的甘氨酸-高岭石在空气中能够长时间稳定存在，可以作为氨基酸类药物缓释系统研究的基础。本发明制备工艺简单快速，成本低，易于实现。特别地，水合高岭石是一种无毒的材料，作为前驱体应用于制备甘氨酸-高岭石插层复合物，可以扩展其在药物研究领域的应用价值。