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多孔性低介电常数材料的制造方法
编号:S000068931 刷新日期: 有效日期至:2020-11-16 浏览:2467 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:信息通信 - 电子信息及通讯
转让类型:合作研发
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
一种多孔性低介电常数材料的制造方法,主要是利用临界点干燥的方式,配合压力、温度的变化,将特定湿膜组成物中的液体成分予以释出,而形成具有多孔性结构的低介电常数材料。具有高稳定性、不易碎裂、高硬度、粘着度佳、热膨胀系数低等优点;可兼容于化学机械研磨制程;具有制程简单及成本低,故可广泛地应用至各种需要使用低介电材料的应用场合中,例如积体电路的镶嵌制程、液晶显示器或通讯用积体电路等的应用上。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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