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> 技术详情
多孔性低介电常数材料的制造方法
编号:S000068931
刷新日期:
有效日期至:
2020-11-16
浏览:
2467
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
信息通信 - 电子信息及通讯
转让类型:
合作研发
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
一种多孔性低介电常数材料的制造方法,主要是利用临界点干燥的方式,配合压力、温度的变化,将特定湿膜组成物中的液体成分予以释出,而形成具有多孔性结构的低介电常数材料。具有高稳定性、不易碎裂、高硬度、粘着度佳、热膨胀系数低等优点;可兼容于化学机械研磨制程;具有制程简单及成本低,故可广泛地应用至各种需要使用低介电材料的应用场合中,例如积体电路的镶嵌制程、液晶显示器或通讯用积体电路等的应用上。
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机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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