提供了一种用于为半导体制作操作提供超纯水的方法和系统。通过利用自由基清除系统和自由基除去系统对水进行处理。自由基清除系统可以利用借助自由基原始化合物（诸如过硫酸铵）的光化辐射。自由基除去系统可以包括对还原剂的使用。可以通过利用离子交换介质和除气装置来对超纯水进一步进行处理。可以利用控制系统来调整原始化合物的添加、光化辐射的强度以及还原剂向水的添加。