本发明公开了一种用于光电-Fenton处理系统的多孔膜阴极及其制备工艺。将石墨粉前处理得到后物质B，物质B再经过KNO₃水溶液、壬基酚聚氧乙烯醚水溶液、乙醇、叔丁醇和聚四氟乙烯乳液处理后得到膏状物A；将膏状物A涂抹在处理后的镍网一侧经挤压处理得到物质E；制备溶液C；将物质B、KNO₃水溶液、壬基酚聚氧乙烯醚水溶液、乙醚、甲醇、二乙基蒽醌、溶液C和聚四氟乙烯乳液制备成膏状物B；将膏状物B涂抹在物质E的另一侧再经挤压、煅烧、冷却后即可得到用于光电-Fenton处理系统的多孔膜阴极。