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用Se纳米晶制作CIS吸收层的方法
编号:S000033538 刷新日期: 有效日期至:2020-12-24 浏览:2441 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 四川 技术领域:能源与环保 - 太阳能利用
转让类型:合作研发
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明公开了一种制作成本低廉的用Se纳米晶制作CIS太阳能电池吸收层的方法。该方法包括如下步骤:a、合成CIS纳米晶,合成含Cu和S元素的纳米晶,合成含In和S元素的纳米晶,合成Se纳米晶;b、配置成膜原料;c、热处理制得CIS吸收层,将步骤b制得的成膜原料涂在经过亲水处理的FTO玻璃基片上,低温烘干定型,然后在惰性气体保护下高温热处理使纳米晶重结晶,制得致密的CIS吸收层。本发明在低温下、短时间内合成纳米晶,降低制作成本,同时使用Se纳米晶添加到制膜原料中制膜,无需在Se蒸汽下热处理,极大的降低了对热处理设备的高要求,进一步降低生产成本,本发明方法适于大规模生产CIS吸收层。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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