本发明公开了一种湿法刻蚀设备，包括刻蚀槽和多个用于支撑待刻蚀硅片的滚轴，多个所述滚轴平行设置于所述刻蚀槽内，且通过若干支架支撑，所述支架与所述滚轴垂直设置；所述滚轴至少分为两段，在其接合处中的一处设置有支架，且该支架高于其余支架。如上设计，待刻蚀硅片与刻蚀液液面之间存在预定夹角，刻蚀过程中，可以利用刻蚀液的液面张力使刻蚀液粘附至待刻蚀硅片的背面和侧面，整体上增大了待刻蚀硅片背面与刻蚀液液面之间的距离，从而刻蚀液不容易爬升至待刻蚀硅片的正面，进而减小刻蚀边，提高太阳能电池的有效受光面积，增大发电量。此外，本发明还公开了一种湿法刻蚀工艺。