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一种p-i-n型InGaN/p-n型Si双结叠层太阳电池及其制备方法
编号:S000033164 刷新日期: 有效日期至:2020-11-18 浏览:2444 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 陕西 技术领域:能源与环保 - 太阳能利用
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明公开了一种p-i-n型InGaN/p-n型Si双结叠层太阳电池及其制备方法。该电池自下而上依次为:p-Si衬底和n-Si层构成Si电池;p-InGaN层、i-InGaN层和n-InGaN层构成InGaN电池;Si电池和InGaN电池之间为直接键合叠加结构或通过梳状金属中间层键合叠加结构;在n-InGaN层上引出有Cr/Ni/Au欧姆接触金属电极,在p-Si衬底背面引出有Al/Au欧姆接触金属电极。方法主要利用InGaN和Si材料的吸收范围相结合,来获得更宽的光谱响应范围。由于本发明同时采用了InGaN薄膜和Si薄膜作为光吸收层,使得吸收蓝紫光波段的InGaN和吸收可见及红外波段的Si两者相结合,可以拓宽光吸收范围,有利于产生更多的光生载流子,提高有效光吸收,同时获得更高的Voc,进而提高电池的转换效率。该p-i-n型InGaN/p-n型Si双结叠层太阳电池可用于太阳能光伏发电。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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