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一种掺杂电阻率均匀的N型铸造硅单晶及其制备方法
编号:S000032584 刷新日期: 有效日期至:2020-12-29 浏览:3315 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 浙江 技术领域:能源与环保 - 太阳能利用
转让类型:合作研发
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明公开了一种掺杂电阻率均匀的N型铸造硅单晶及其制备方法,其中方法包括如下步骤:将无位错的原料单晶硅块铺满坩埚底部,再将多晶硅料、磷掺杂剂和镓放入坩埚中,升温熔融多晶硅料、磷掺杂剂、镓和靠近多晶硅的部分原料单晶硅块,利用铸造法生长硅单晶体。本发明可以将90%左右高度的N型磷掺杂单晶硅铸锭的电阻率控制在1.0~2.0Ω.cm范围内,有效提高N型单晶硅在制备太阳能电池过程中的利用率,从而显著降低太阳能电池的制造成本,操作简单,易于在光伏产业推广应用。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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