本发明涉及一种磁控溅射镀膜机平面靶的屏蔽罩带气流挡板，用来改善镀膜均匀性，属于薄膜太阳能电池技术领域。本发明目的是提供一种PVD镀膜机用的能够改善镀膜均匀性的屏蔽罩装置和屏蔽方法，以求改善镀膜均匀性提高薄膜太阳能电池的转换效率。本发明的技术特征屏蔽罩（10）有保护气管（9）上气流小孔气的气流挡板（11）使气流充分混合的疏流装置。方法是用屏蔽罩（10）上带有气流挡板（11），其间有一小长狭缝，用气流挡板（11）合围气管（9）保护其上的小孔不被轰击。本发明显著的改善了膜层的均匀性和镀膜质量。提高了镀膜机的镀膜质量。