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一种能提升冶金级硅片少子寿命的扩散工艺
编号:S000032304 刷新日期: 有效日期至:2021-01-03 浏览:2230 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:能源与环保 - 太阳能利用
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明涉及物理冶金级硅太阳能电池制造过程中的扩散工艺,尤其是一种能提升冶金级硅片少子寿命的扩散工艺。其特点是,包括如下步骤:(1)低温进舟、初步升温;(2)通源扩散;(3)恒温推进;(4)降温、退舟。本发明的有益效果是:1.采用喷淋式扩散可节省磷源,同时提高扩散结深的均匀性,并且适合做高方阻;2.针对物理冶金硅的特性,采用双面磷吸杂,增强吸杂效果,提升硅片少子寿命;3.通过温度与时间的协调,有效改善扩散工艺;4.控制通氧与通源量的比例,减少由于直接扩散引起的缺陷,改善PN结结深,也可改善表面钝化效果,提高短路电流与开路电压,进而提升冶金硅太阳能电池转换效率及成品率。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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