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一种冶金级单晶硅太阳能电池双层减反膜镀膜工艺
编号:S000031337 刷新日期: 有效日期至:2020-10-19 浏览:2437 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:能源与环保 - 太阳能利用
转让类型:合作研发
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明涉及冶金级单晶硅太阳能电池片制造中的镀膜工艺,尤其是一种冶金级单晶硅太阳能电池双层减反膜镀膜工艺。其特点是,包括如下步骤:镀膜机反应腔体内抽真空;通入氨气和硅烷,时间15s~20s,控制氨气流量6300sccm~6400sccm,硅烷流量1400sccm~1500sccm;第一次镀膜;反应腔体抽真空,再通入氨气和硅烷,时间为15s~20s,控制氨气流量7100sccm~7200sccm,硅烷流量600sccm~700sccm;第二次镀膜;将反应腔体抽真空,然后冲入N2直到常压即可完成。经过试用证明,本发明工艺结合了氮化硅薄膜各方面的优势,达到了优势最大化。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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