本发明属于半导体制造工艺中的硅片清洗技术领域，具体提供了一种太阳能电池硅片清洗液及使用方法。该太阳能电池硅片清洗液由硝酸、氢氟酸及去离子水混合配置而成；使得清洗液中硝酸的质量百分浓度为40%~60%，氢氟酸的质量百分浓度为0.025%~0.08%，余量为去离子水。该硅片清洗液的使用方法是：先用去离子水浸泡清洗硅片，再用该清洗液浸泡清洗。本发明不仅可以有效的去除硅片表面的有机、无机污染，而且可以去除附着在硅片表面的金属、非金属颗粒，从而提高了太阳能电池片的优质率与效率。本发明的清洗液配方简单，清洗效果好，且清洗方法简单，清洗时间短，清洗需要的温度不高。