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一种SiO2减反射薄膜及其制备方法
编号:S000028340 刷新日期: 有效日期至:2020-10-01 浏览:2403 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 浙江 技术领域:能源与环保 - 太阳能利用
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明公开了一种SiO2减反射薄膜,包括光伏玻璃衬底以及依次涂覆在光伏玻璃衬底上的10nm-30nm厚的第一SiO2致密层、50nm-300nm厚的SiO2纳米空心颗粒层和填充在SiO2纳米空心颗粒层中SiO2纳米空心颗粒之间孔隙中的第二SiO2致密物;第二SiO2致密物的填充总量等同于5nm-30nm厚的第一SiO2致密层中SiO2致密物的量。该薄膜具有优良的减反射性能、耐擦拭性能和耐久性。本发明还公开了该制备方法:在光伏玻璃上制备第一SiO2致密层,再制备SiO2纳米空心颗粒层并填充第二SiO2致密物,经高温处理得到SiO2减反射薄膜。该方法操作简单,适合工业化大规模应用。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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