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一种从工业硅中去除杂质的方法
编号:S000026795 刷新日期: 有效日期至:2020-12-08 浏览:2362 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:能源与环保 - 水资源开发与保护
转让类型:合作研发
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明涉及一种从工业硅中去除杂质的方法。本发明的从工业硅中去除杂质的方法,包括以下步骤:1)将硅块经粉碎研磨后,筛分得到100~200目的硅粉;2)将硅粉水洗净化,加入到盐酸和氢氟酸的混合溶液浸出;3)将处理后的硅粉加入到王水溶液中进行第二次浸出;4)将处理后的硅粉加入到氢氟酸溶液中进行第三次浸出;上述步骤2)、3)、4)顺序任意变换调整;5)将所得硅粉用纯净水洗涤至中性,最后干燥处理,获得提纯后的硅粉。本发明根据工业硅的杂质赋存形态和特点,优化选择酸介质的组合及其浓度,反应步骤等条件,在常规条件下将工业硅纯度提高至4N以上的纯度。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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