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一种自对位曝光取向设备及制作相位差板的工艺方法
编号:S000025955 刷新日期: 有效日期至:2020-11-07 浏览:2269 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:信息通信 - 电子信息及通讯
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种自对位曝光取向设备及制作相位差板的工艺。该设备包括基台,其用于放置待取向显示面板,与待取向显示面板连接的显示面板驱动系统,待取向显示面板上间隔分布第一像素组和第二像素组;第一基板上设有第一偏振片,第一偏振片上设有光取向层;从第二基板射向第一基板的光为线性偏振光;第一曝光光源,位于靠近所述第二基板的一侧;第二曝光光源,位于靠近所述第一基板的一侧,第二曝光光源射出的光为线性偏振光,线性偏振光的偏振方向与所述第一偏振片的透光轴方向相垂直。本发明提供的自对位曝光设备,避免采用掩膜版制作相位差板,最大程度地降低生产成本且使得对位精度得以提高。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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