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> 技术详情
纳米多孔铜薄膜的制备方法
编号:S000025950
刷新日期:
有效日期至:
2020-10-20
浏览:
2456
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 - 江苏
技术领域:
信息通信 - 电子信息及通讯
转让类型:
科技服务
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明公开了一种纳米多孔铜(NPC)薄膜的制备方法,目的是提供包括一种多孔的三棱柱状结构和一种双连续的“三角韧带–孔道”结构在内的NPC薄膜的磁控溅射制备方法。本发明利用射频平衡磁控溅射镀膜系统,以绝缘载玻片为间接衬底,先在载玻片上沉积一层具有粗糙表面的金属铜薄膜作直接衬底,然后施加衬底负偏压,利用尖端集电原理诱使入射铜原子在直接衬底上进行选择性优先沉积,从而获得各向异性的NPC薄膜。本发明制备的NPC薄膜的形貌取决于直接衬底铜膜的形貌,通过控制衬底的形貌能够可控地制备不同结构的NPC薄膜,具有工艺简单、大面积、均匀性好、各向异性等优点,在太阳能薄膜电池、催化、传感器、生物探测等领域具有潜在应用前景。
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No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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