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> 技术详情
193nm熔石英光栅起偏器及其在光刻设备中的应用
编号:S000025854
刷新日期:
有效日期至:
2020-11-13
浏览:
2504
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
信息通信 - 电子信息及通讯
转让类型:
技术转让
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
一种193nm熔石英光栅起偏器及其在光刻设备中的应用,该光栅式起偏器在熔石英薄片的表面上刻有一定图形的光栅,该光栅为亚波长周期、深刻蚀光栅,该光栅的线密度为5260~5400线/mm,深度为1.1~1.2μm,占空比为30%~40%。该熔石英光栅起偏器是直接在紫外可透的光学薄片上制作光栅,能够有效避免能量损耗,并提高光学元件的稳定性。加工工艺成熟,精度高,能有效降低起偏器的成本。采用熔石英光栅起偏器,获得的偏振光偏振纯度高。而且同多层膜式起偏器相比,光栅对光束的入射方向不敏感,机械对准精度要求低,容易实现。光栅起偏器的厚度小,占用空间少,可放置在光刻照明系统多个位置,位置选择更加灵活。
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认证方式:
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