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> 技术详情
一种硅片曝光方法及装置
编号:S000025726
刷新日期:
有效日期至:
2020-10-18
浏览:
2469
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
信息通信 - 电子信息及通讯
转让类型:
合作研发
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明提出了一种光刻装置硅片曝光方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)按照一定规则选取位于工件台上的硅片上的测量点;(2)使用测量系统测量选取好的测量点的位置数据;(3)对位置数据进行拟合,得到硅片面形;(4)计算硅片上每个曝光场的调焦调平参数;(5)根据曝光场的调焦调平参数对硅片进行调焦调平;(6)对硅片进行曝光。本发明提出的一种硅片曝光的方法以曝光场为单位进行调焦调平,保证每个曝光场在焦深范围内进行曝光,从而保证每个曝光场的成像质量;因对硅片所有曝光场都进行调焦调平,大大提高了曝光场的曝光质量,从而提高了硅片的良率与产率。
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No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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