本发明公开了一种强磁场下脉冲激光沉积薄膜制备系统，包括超导磁体、真空室、准分子脉冲激光器、激光束聚焦与扫描、高真空机组及各种控制系统等组成。真空腔内设有基片台、可旋转和升降的靶台等。在真空室内设有遮挡板，避免靶材的交叉污染，在靶台和基片台附近设有光纤摄像头，便于观察真空室内激光光路对准和薄膜沉积情况。本发明使用了超导磁体，磁场的方向与沉积薄膜的膜面可以平行或垂直，系统可用于0～15特斯拉不同磁场强度下的薄膜原位生长和后退火处理，从而实现对所沉积薄膜的微结构和功能特性的调控。