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> 技术详情
一种光刻胶模板及图案化ZnO纳米棒阵列的制备方法
编号:S000022835
刷新日期:
有效日期至:
2020-10-09
浏览:
2447
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
合作研发
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明公开了一种三光束激光干涉制备光刻胶模板的方法以及利用此方法制备图案化ZnO纳米棒阵列的应用,借助三光束激光干涉图案化技术,单次曝光快速生成大面积六角排列圆形孔洞模板,利用该模板对ZnO纳米棒阵列进行限域水热生长,从而实现ZnO纳米棒在位置、粗细、长短和疏密上的精确调控,具有系统结构简单、成本低廉、无需掩膜和转台、加工速度快和调控能力强等优点。所得大面积高度有序排列的ZnO纳米棒阵列,可应用于多个相关领域,包括发光二极管、紫外探测器、染料敏化太阳能电池、场发射冷阴极、应力传感器和生物传感器等,最终提高纳米功能器件的性能,具有重大的现实意义。
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No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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