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背沟道蚀刻金属氧化物薄膜晶体管和工艺
编号:S000022797 刷新日期: 有效日期至:2020-11-12 浏览:2467 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本公开涉及背沟道蚀刻金属氧化物薄膜晶体管和工艺。提供一种制造有机发光二极管OLED显示器的方法。该方法包括形成包括第一和第二金属层的薄膜晶体管TFT基板。该方法还包括在第二金属层上沉淀第一钝化层和在沟道区域和存储电容器区域上形成第三金属层。第三金属层构造为连接到第二金属层的第一部分,第二金属层的第一部分构造为在穿过栅极绝缘体和第一钝化层的第一通孔中连接到第一金属层。该方法还包括在第三金属层上沉积第二钝化层和在第二钝化层上形成阳极层。阳极构造为连接到第三金属层的第二部分,第三金属层的第二部分构造为在第一钝化层和第二钝化层的第二通孔中连接到第二金属层。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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