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> 技术详情
纳米柱发光二极管的制作方法
编号:S000022299
刷新日期:
有效日期至:
2021-01-01
浏览:
2432
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
技术转让
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
一种纳米柱发光二极管的制作方法,包括:在蓝宝石衬底上依次外延u-GaN层、n型GaN层、二氧化硅掩蔽层和聚苯乙烯球;采用加热和ICP的方法,刻蚀聚苯乙烯球;采用加温处理,使聚苯乙烯球在二氧化硅掩蔽层的表面有稍微塌陷,把点接触变成面接触;在其上蒸金属;去除聚苯乙烯球表面的金属;采用加热处理和刻蚀二氧化硅掩蔽层;酸液腐蚀去掉金属掩膜,形成二氧化硅纳米孔状阵列结构;在其上依次外延MQW层、EBL层和p-GaN层,形成基片,在基片上生长ITO透明电极;分割成小芯片,将小芯片置于BOE溶液中超声时间为80s,使二氧化硅纳米孔状阵列结构的二氧化硅掩蔽层被腐蚀掉后,被空气包覆,完成器件的制备。该方法使用自组装技术,工艺简单,技术先进,有利于大规模生产。
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