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> 技术详情
一种台阶结构的碳化硅外延发光二极管
编号:S000022288
刷新日期:
有效日期至:
2020-11-26
浏览:
3239
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 - 江苏
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
技术转让
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明公开了一种台阶结构的发光二极管,所述发光二极管的结构为:在硅衬底(1)上具有外延生长的碳化硅外延层(2),在该碳化硅外延层(2)上依次具有低温缓冲层(3、)n型掺杂的Al
0.05
In
0.05
Ga
0.9
N层(4)、交替形成的超晶格结构的n-Al
0.05
In
0.05
Ga
0.9
N/n-AI
0.05
In
0.05
Ga
0.9
P多量子阱层(5)、p型掺杂的AlGaN层(6)、p型掺杂的In
0.05
Ga
0.95
N层(7)、交替形成的超晶格结构的p-In
0.1
Ga
0.95
N/p-In
0.1
Ga
0.95
P多量子阱层(8),第一透明金属层(9)以及p型电极(10),其中在所述n型掺杂的Al
0.05
In
0.05
Ga
0.9
N层(4)上具有第二透明金属层(11)以及n电极(12)。
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机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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