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> 技术详情
渐变半径光子晶体发光二极管制备方法
编号:S000022267
刷新日期:
有效日期至:
2020-11-09
浏览:
2251
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
科技服务
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
一种渐变半径光子晶体发光二极管的制备方法,包括:取一氮化镓基发光二极管外延片;在外延片的P型GaN接触层上生长ITO层;在ITO层上淀积一层SiO
2
层,在SiO
2
层上制作掩膜板图形;根据掩膜板图形腐蚀去掉外延片一侧的部分SiO
2
层、P型GaN接触层、有源层和N型GaN接触层,腐蚀深度至N型GaN接触层内;在ITO层上向下刻蚀制作第一层光子晶体结构;在第一层光子晶体结构的基础上向下刻蚀制作与第一层光子晶体结构晶格常数相同的第二层光子晶体结构;在GaN接触层一侧形成的台面上制作N电极;在ITO层上第一层光子晶体结构的一侧制作P电极,完成器件的制作。本发明增加了发光二极管的光提取效率。
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机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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