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一种氮化镓基发光二极管外延片及其制备方法
编号:S000022206 刷新日期: 有效日期至:2020-11-27 浏览:2510 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 江西 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明提供一种氮化镓基发光二极管外延片及其制备方法,该方法包括以下步骤:1)在H2气氛下,对衬底进行热处理;2)在N2、H2和NH3的混合气氛下,在热处理后的衬底上由下至上依次生长GaN缓冲层、GaN非掺杂层、掺硅元素的N型GaN掺杂层;3)在N2和NH3的混合气氛下,在所述掺硅元素的N型GaN掺杂层上生长GaN/InGaN/GaN量子阱发光层;4)在N2、H2和NH3的混合气氛下,采用2-5次脉冲的方式在所述GaN/InGaN/GaN量子阱发光层上生长掺镁元素的P型GaN掺杂层,得到氮化镓基发光二极管外延片。本发明在制备氮化镓基发光二极管外延片的过程中,利用2-5次脉冲的方式生长掺镁元素的P型GaN掺杂层,有效的提高了掺镁元素的P型GaN掺杂层中Mg的激活效率,从而提高发光二极管外延片的亮度。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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