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一种基于液相分散的二维MoS2纳米片的制备方法
编号:S000021865 刷新日期: 有效日期至:2020-11-08 浏览:2052 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 黑龙江 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:合作研发
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
一种基于液相分散的二维MoS2纳米片的制备方法,本发明涉及一种二维MoS2纳米片的制备方法,它要解决现有制备MoS2纳米片的工艺复杂,得到的纳米片厚度不够接近单层和悬浮液中MoS2纳米片浓度较小的问题。制备:一、将MoS2块状粉末与分散溶剂混合,得到初始混合液;二、对初始混合液进行高速剪切;三、再对混合液进行超声处理;四、最后对混合液进行离心处理,静置后取上层清液,得到二维MoS2纳米片悬浮液。本发明的工艺简单易行,获得的MoS2纳米片悬浮液的荧光现象明显增强,表明MoS2纳米片的厚度更接近单层,纳米片浓度更大。本发明主要应用于半导体、光电子器件、航空航天、无损检测和复合材料等领域。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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