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一种基于液相分散的二维MoS
2
纳米片的制备方法
编号:S000021865
刷新日期:
有效日期至:
2020-11-08
浏览:
2261
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 - 黑龙江
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
合作研发
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
一种基于液相分散的二维MoS
2
纳米片的制备方法,本发明涉及一种二维MoS
2
纳米片的制备方法,它要解决现有制备MoS
2
纳米片的工艺复杂,得到的纳米片厚度不够接近单层和悬浮液中MoS
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纳米片浓度较小的问题。制备:一、将MoS
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块状粉末与分散溶剂混合,得到初始混合液;二、对初始混合液进行高速剪切;三、再对混合液进行超声处理;四、最后对混合液进行离心处理,静置后取上层清液,得到二维MoS
2
纳米片悬浮液。本发明的工艺简单易行,获得的MoS
2
纳米片悬浮液的荧光现象明显增强,表明MoS
2
纳米片的厚度更接近单层,纳米片浓度更大。本发明主要应用于半导体、光电子器件、航空航天、无损检测和复合材料等领域。
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机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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