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> 技术详情
低温制造齐纳二极管工艺
编号:S000021837
刷新日期:
有效日期至:
2020-12-13
浏览:
2476
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 - 江苏
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
技术转让
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明公开了一种低温制造齐纳二极管工艺,包括以下步骤:在N型重掺杂N+硅晶片的上面生长或沉积一层氧化硅;通过半导体光刻和刻蚀工艺在上述氧化硅上打开缺口,并刻蚀出和N+区的厚度一样的硅槽,清洗该硅槽上的光刻胶;在上述氧化硅层上面镀一层铝薄膜,并在该铝薄膜上生长一层非晶硅薄膜,其中在上述硅槽中形成铝薄膜和非晶硅薄膜的复合层;在低温条件下退火条件下,使上述硅槽中的非晶硅薄膜中的Si原子扩散到上述铝薄膜,在上述硅槽中的硅片表面上形成铝掺杂的P+单晶;清洗去除氧化硅层,残余的铝薄膜和非晶硅膜。通过在低于400℃的低温下完成集成,从而使齐纳二极管的制造工艺更加的灵活。
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机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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