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> 技术详情
一种发光二极管的外延片及其制造方法
编号:S000021764
刷新日期:
有效日期至:
2020-10-05
浏览:
2210
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 - 湖北
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
合作研发
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明公开了一种发光二极管的外延片及其制造方法,属于半导体技术领域。该外延片包括:衬底、以及依次层叠在衬底上的缓冲层、不掺杂的GaN层、n型层、多量子阱层和p型层,外延片还包括设于n型层与多量子阱层之间的电流扩展层,电流扩展层为超晶格结构,超晶格结构由第一子层和第二子层交替层叠而成,第一子层和第二子层由Al
x
Ga
1-x
N制成,相邻的第一子层和第二子层中的Al的组分含量不同,其中,0
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