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> 技术详情
一种分割环栅的抗辐照N型MOSFET
编号:S000021677
刷新日期:
有效日期至:
2020-11-04
浏览:
2590
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 - 四川
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
技术转让
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
一种分割环栅的抗辐照MOSFET,涉及半导体器件领域,尤其涉及一种分割环栅MOSFET的方法。本发明对环栅MOSFET进行分割,解决环栅结构难以实现较小宽长比W/L的问题,以期减小沟道泄漏电流和器件面积。本发明根据分割区的不同提出了三种结构,结构一的分割区用场氧实现,减小了环栅栅宽W,而且有一定的抗辐照特性。结构二在分割区引入多晶硅栅(金属栅),抑制源漏间寄生漏电沟道,有较强的抗辐照性能。结构三只分割源/漏极,形成一种有抗辐照特性的电流镜,这种电流镜也可用在无辐照的环境中。分割后的结构可抑制源漏间寄生漏电沟道,具有抗辐照特性,且易与传统MOSFET工艺兼容。
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机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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