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一种分割环栅的抗辐照N型MOSFET
编号:S000021677 刷新日期: 有效日期至:2020-11-04 浏览:2590 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 四川 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
一种分割环栅的抗辐照MOSFET,涉及半导体器件领域,尤其涉及一种分割环栅MOSFET的方法。本发明对环栅MOSFET进行分割,解决环栅结构难以实现较小宽长比W/L的问题,以期减小沟道泄漏电流和器件面积。本发明根据分割区的不同提出了三种结构,结构一的分割区用场氧实现,减小了环栅栅宽W,而且有一定的抗辐照特性。结构二在分割区引入多晶硅栅(金属栅),抑制源漏间寄生漏电沟道,有较强的抗辐照性能。结构三只分割源/漏极,形成一种有抗辐照特性的电流镜,这种电流镜也可用在无辐照的环境中。分割后的结构可抑制源漏间寄生漏电沟道,具有抗辐照特性,且易与传统MOSFET工艺兼容。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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