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> 技术详情
一种基于图形化锗衬底的三结太阳能电池及其制备方法
编号:S000021661
刷新日期:
有效日期至:
2020-10-15
浏览:
2395
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 - 江苏
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
技术转让
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
一种基于图形化锗衬底的三结太阳能电池及其制备方法,属于半导体材料技术领域。先将图形化Ge衬底通过扩散形成Ge底电池;然后在衬底图形上直接生长大失配In
x
Ga
1-x
As中电池;最后生长与中电池晶格匹配的顶电池In
y
Ga
1-y
P。采用上述结构的太阳能电池,从太阳光谱和带隙的角度看上,底电池、中电池和顶电池电流比较接近,光源利用率比一般带隙不匹配的三节电池高很多,能显著提高太阳能电池效率。同时从晶格常数匹配的角度看,采用图形化的衬底,解决了带隙匹配的材料晶格失配带来的材料生长难题。
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No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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