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一种具有低导通压降的P-i-N二极管
编号:S000021638 刷新日期: 有效日期至:2021-01-06 浏览:2418 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 四川 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
一种具有低导通压降的P-i-N二极管,属于功率半导体器件技术领域。本发明在二极管中引入由槽栅结构和JFET结构所组成载流子注入模式控制结构。通过施加栅极电压脉冲调制二极管的注入模式,使二极管分别工作在P-i-N模式和零结模式下,以达到降低二极管导通压降的目的。本发明所述的二极管在具有常规P-i-N二极管的高阻断电压和低漏电流优势的同时,能够获得更低的导通压降和更快的反向恢复速度,进而大幅度降低二极管在电路应用中产生的功耗。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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