本发明提供一种半色调掩模板及其制造方法，属于显示领域。该半色调掩模板中，包括像素区和外围走线区，所述像素区包括半透光区域，其中，从所述远离像素区边缘到所述像素区边缘的方向上，所述掩模板的半透光区域的透光率逐渐减小。本发明的技术方案能够有效避免TFT-LCD阵列基板外围走线区附近像素区域沟道光刻胶偏薄，经刻蚀工艺后易发生源漏极沟道半导体缺失，从而改善TFT-LCD出现的像素点灯不良现象。