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使用高介电常数槽结构的低比导通电阻的纵向功率器件
编号:S000021493 刷新日期: 有效日期至:2020-10-17 浏览:2384 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 四川 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
使用高介电常数槽结构的低比导通电阻的纵向功率器件,涉及半导体功率器件,本发明包括漂移区、硅衬底、栅极、沟道区、欧姆接触重掺杂区、源极和绝缘栅极介质,其特征在于,漂移区、硅衬底、源极为第一种导电类型,沟道区、欧姆接触重掺杂区为第二种导电类型,高介电常数材料柱设置于栅极与硅衬底之间,栅极与高介电常数材料柱直接接触,漂移区环绕于高介电常数材料柱。本发明使高介电材料功率器件的比导通电阻和纵向Super Junction功率器件相比,出现超过三个数量级的降低。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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