本发明涉及一种镍侵蚀缺陷在线检测方法，用于在CMOS器件制备工艺中检测镍侵蚀缺陷，包括如下步骤：a)、电子束扫描仪以第一配置参数扫描CMOS器件一表面区域，滤除非线条状缺陷，第一配置参数包括第一电流值；b)、电子束扫描仪以第二配置参数扫描该表面区域，滤除线条状缺陷，第二配置参数包括第二电流值；c)、以透射电镜在暗场下扫描该表面区域，确定是否存在镍侵蚀缺陷；d)、若存在镍侵蚀缺陷，通过失效分析对镍侵蚀缺陷进行核实与分类；e)、切换至另一表面区域，回到步骤a）继续执行。其中，第一电流值小于第二电流值。该方法准确率高、实施简单，易于在半导体行业内推广。