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一种用于SOI高压PMOS器件的仿真电路及仿真方法
编号:S000021279 刷新日期: 有效日期至:2020-11-29 浏览:2386 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 四川 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明涉及半导体技术,具体的说是涉及一种用于SOI高压PMOS器件的仿真电路及其仿真方法。本发明的一种用于SOI高压PMOS器件的仿真电路,包括PMOS管,其特征在于,所述PMOS管的漏极与可变电压源Vnh连接、衬底与固定电压源VHV连接、栅极与源极接地。本发明的有益效果为,高压PMOS管的源级与衬底之间的电势差始终为固定的应用高压电源电压VHV,该电势差大小等于衬底所加固定电压值,本发明提供的SOI高压PMOS管击穿电压仿真电路及方法弥补了常规仿真电路及测试方法中SOI高压PMOS管的源级与衬底之间的电势差随漏极所加电压Vnh变化而变化这一缺陷,与实际应用中SOI高压PMOS管的情况更加符合。本发明尤其适用于SOI高压PMOS器件的仿真。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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