本发明涉及一种用于用于氮化镓材料的研磨组合物及其制备方法。所述研磨组合物包括一定质量配比的磨粒、表面活性剂、吡咯烷离子液体、聚乙烯醇、N-烷基-二烷基醇胺、季膦盐、冠醚、2-硝基乙醇、羧甲基纤维素、鼠李糖脂、研磨促进剂、助剂和去离子水，该种新型的研磨组合物通过组分类别的合适甄选和比例的适当复配而实现了氮化镓晶片加工中的快速研磨、高表面精度的优异效果，尤其满足了半导体产业的实际需求，在工业生产中具有广阔的应用前景和市场价值。