本发明公开了一种立式扩散炉电器控制系统及控制方法，涉及半导体生产技术领域，所述系统包括：中心控制模块，用于根据传输模块和工艺模块发送来的状态信息，对所述传输模块和工艺模块进行控制；所述传输模块，用于控制硅片的传输，记录硅片的状态信息，并将所述硅片的状态信息发送至所述中心控制模块；所述工艺模块，用于根据工艺需求，控制硅片在工艺过程中所需要的温度、气体和气压。本发明通过提出一种新型的立式扩散炉电器控制系统内部的构架，提高了设备自动化程度，同时提高设备运行的可靠性。