本发明提供了一种阵列基板的制作方法，该阵列基板的制作方法包括：通过构图工艺，形成位于第一区域的半导体层和源漏电极层的图案，所述第一区域为预定用于形成薄膜晶体管的源漏电极的区域；在保留有第一区域的源漏电极层的基板上形成透明导电层；通过构图工艺，形成第一透明电极和延伸部的图案；所述延伸部延伸到所述第一区域的预定形成源电极的第一位置的上方；通过构图工艺，去除所述第一区域中所述第一位置和第二位置之外的源漏电极层，形成源漏电极图案，所述第二位置为预定形成漏电极的位置。本发明改善了画面品质。