本发明公开了一种阵列基板及其制造方法、显示装置，涉及显示领域，能够减少掩模板的使用数量，从而提高效率，降低成本。所述阵列基板制造方法，包括：在基板上依次形成第一透明导电薄膜、半导体薄膜、掺杂半导体薄膜和漏源金属薄膜，涂敷光刻胶并曝光形成四个光刻胶厚度不一的区域，再分区域刻蚀形成第一电极、TFT沟道、数据线、源极和漏极；形成绝缘层薄膜，采用构图工艺分别在第三区域的漏极上，第一区域的第一电极上形成过孔；依次形成第二透明导电薄膜和栅极金属薄膜，涂敷光刻胶并曝光形成光刻胶厚度不一的E、F和G区域，再分区域刻蚀形成栅线、栅极、公共电极线、第二电极和连接漏极及像素电极的连接线。