本发明实施例公开了一种阵列基板制备方法、阵列基板以及液晶显示装置，涉及液晶显示领域，节省了阻挡层结构的设置，提高了液晶显示装置的光学利用率。本发明实施例提供的一种阵列基板制备方法，包括：形成栅极金属层，通过构图工艺形成包括栅极、栅极线的图形；形成栅极绝缘层；形成有源层以及半导体层，通过构图工艺形成包括硅岛的图形；形成源漏金属层，通过构图工艺形成包括数据线的图形；形成第一感光树脂层以及第二感光树脂层，通过构图工艺以及固化工艺形成沟道开口、接触孔的图形以及包括凹凸图案的第一钝化层；通过刻蚀工艺刻蚀掉沟道开口位置处的源漏金属层以及半导体层，形成包括源极、漏极以及沟道的图形。