用户登录
用户注册
English
技术供应
>技术供应
>技术需求
>协作成员
>专家委员
>新闻资讯
首页
中心简介
新闻资讯
工作动态
行业资讯
特别关注
热点视频
技术供应
技术需求
协作成员
专家智库
专家咨询委员会
数字展会
成功案例
配套服务
下载中心
《中阿科技论坛》
您当前的位置：
首页
>
供应列表
> 技术详情
用于改善应变结构的厚度均匀性的反应层
编号：S000020594
刷新日期：
有效日期至：
2020-10-20
浏览：
2373
次
对接邀请：
0
次
意向价格：
面议
所在区域：
中国 -
技术领域：
智能制造 - 装备制造业
转让类型：
科技服务
专利类型：
发明专利
技术成熟度：
可以量产
供应描述
公开了在凹槽的表面上形成并去除反应层以提供用于改善在该凹槽中形成的半导体材料的厚度均匀性的机构的方法。改善的厚度均匀性反过来又改善了器件性能的均匀性。本发明提供了用于改善应变结构的厚度均匀性的反应层。
分享到：
申请对接
收藏此供应
推荐给好友
穿越到手机
联系方式
在线QQ：
机构地址：
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
查看地图
China-Arab States Technology Transfer Center
认证方式：
相似供应
一种O,O二齿型有机二氟化硼荧光染料及其制备方法
所在区域：中国
转让类型：
技术转让
侧链含硫醚的六苯并蔻化合物及其制备方法
所在区域：中国
转让类型：
技术转让
液力同步双速器
所在区域：中国
转让类型：
合作研发
一种高透过率低反射率的减反射膜镀膜方法
所在区域：中国
转让类型：
技术转让
