本发明提供一种阵列基板及其制备方法、液晶显示装置，属于液晶显示技术领域，其可解决现有的ADS模式阵列基板制造工艺复杂、透过率低、驱动效果不好的问题。本发明的阵列基板制备方法包括：在基底上通过使用阶梯曝光的构图工艺形成包括栅线、栅极、栅绝缘层、半导体层、第一透明电极的图形；其中，所述栅绝缘层不超出栅极和栅线上方；在完成前述步骤的基底上形成钝化层，并在钝化层中形成与半导体层相连的源极过孔和漏极过孔；在完成前述步骤的基底上通过构图工艺形成包括源极、漏极的图形，并通过构图工艺形成包括第二透明电极的图形；其中，所述源极、漏极分别通过源极过孔、漏极过孔与半导体层电连接。